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【快訊重點】
荷蘭半導體設備巨頭 ASML（ASML.N）近日宣佈，通過將極紫外光（EUV）系統光源功率從 600 瓦提升至 1,000 瓦，預計至 2030 年晶片產量將提升 50%。此技術創新不僅將大幅降低每片晶片成本，亦為台積電（2330）等晶圓代工龍頭帶來更高產能。市場回應熱烈，台積電股價於昨日創下歷史新高，市值突破 51 兆元。

【核心分析】
ASML 的 EUV 系統是先進半導體製程不可或缺的核心設備。新技術核心在於提升光源功率，從而縮短曝光時間。此舉可使單台機器每小時處理晶圓數量從現有 220 片提升至 330 片，實際上提升產能 50%。對台積電而言，這代表未來 7 年內，先進製程（如 3 奈米、5 奈米等）的產能將顯著增加，進而減少單晶成本並提升毛利率。ASML 本季度財報表現優於市場預期，已將 2026 年全年營收預估調高，顯示對 AI、5G、車用電子等高需求領域的市場前景持樂觀態度。

【市場觀點】
股市專家普遍認為，ASML 的光源升級將成為半導體產業的關鍵推進力。法人的分析指出，隨著 AI、雲端運算需求的爆發，先進製程晶片需求將持續攀升，台積電作為最大的 EUV 製程使用者，將從中受益。投資者亦將此技術視為台積電維持代工龍頭地位的長期動能，進一步推升其股價。市場普遍期待，ASML 於 2026 年起將加速推進新一代 EUV 系統，為台積電及整個半導體產業帶來更大規模的產能提升。

> **來源**：UDN (發佈時間 2026/02/25 02:19:59)
> **原文標題**：ASML 秀新技術 2030年晶片產量激增五成 台積電吞大力丸
> **短網址**：